化学机械抛光垫、其制造方法以及化学机械抛光方法

摘要

一种化学机械抛光垫，包含由(A)苯乙烯聚合物和(B)二烯聚合物构成的非水溶性基质。上述化学机械抛光垫的制造方法，其特征在于制备含有(A)苯乙烯聚合物、(B)二烯聚合物和(C)交联剂的组合物，将上述组合物成形为预定的形状，并在成形的同时或者成形后加热使其固化，以及一种化学机械抛光方法，其特征在于通过上述化学机械抛光垫对被抛光物的被抛光面进行抛光。根据本发明，可以提供一种化学机械抛光垫，其能够优选适用于金属膜的抛光或绝缘膜的抛光、特别是STI技术，在得到平坦的被抛光面的同时，还能达到较高的抛光速度，且具有足够长的寿命。

主权项

1. 一种化学机械抛光垫，由含有苯乙烯聚合物和二烯聚合物的非水溶性基质形成，上述苯乙烯聚合物与二烯聚合物的用量相对于其合计100重量份，分别是苯乙烯聚合物为5-70重量份，二烯聚合物为30-95重量份，其中非水溶性基质通过在上述苯乙烯聚合物与二烯聚合物中的任意一种成分中分散另一种成分而形成海岛构造，且其平均岛域大小为0.1～30μm。