| 发明名称 | 衬底抛光方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种衬底抛光方法，包括：经由多个流体通道将流体提供给多个压力室；将多个传感器分别设置在所述多个流体通道中，用于检测流过所述多个流体通道的所述流体的流动状态；当在所述多个流体通道的两个相邻流体通道中的二个所述传感器检测到所述流体的固定流动方向时，则判断为发生流体泄露并停止抛光所述衬底。 | ||
| 申请公布号 | CN101241843A | 申请公布日期 | 2008.08.13 |
| 申请号 | CN200810081220.6 | 申请日期 | 2004.02.25 |
| 申请人 | 株式会社荏原制作所 | 发明人 | 户川哲二;锅谷治 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/304(2006.01);B24B1/00(2006.01);B24B55/00(2006.01);B24B49/16(2006.01);B24B37/04(2006.01);B24B29/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 刘炳胜 |
| 主权项 | 1、一种衬底抛光方法，包括：经由多个流体通道将流体提供给多个压力室；将多个传感器分别设置在所述多个流体通道中，用于检测流过所述多个流体通道的所述流体的流动状态；当在所述多个流体通道的两个相邻流体通道中的二个所述传感器检测到所述流体的固定流动方向时，则判断为发生流体泄露并停止抛光所述衬底。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||