发明名称 新型多层无芯支撑结构及其制作方法
摘要 本发明公开了一种新型多层无芯支撑结构的制作方法,该制作方法包含有阶段:I-在牺牲载体上制作含有由绝缘材料包围的传导通孔的膜;II-从牺牲载体上剥离所述膜,形成独立式的层状阵列;该膜含有位于绝缘材料中的通孔阵列。本发明还公开了一种新型多层无芯支撑结构的制作方法,至少包含有阶段:(I)在牺牲载体上制作含有由绝缘材料包围的传导通孔的膜;(II)从牺牲载体上剥离所述膜,形成独立式的层状阵列;(V)减薄、平整;(VII)终端阶段。
申请公布号 CN101241861A 申请公布日期 2008.08.13
申请号 CN200710105226.8 申请日期 2007.05.24
申请人 Amitec多层互连技术有限公司 发明人 D.·胡尔维茨;E.·埃格纳;B.·斯坦特尼科夫;B.·麦考利;M.·法卡施
分类号 H01L21/48(2006.01) 主分类号 H01L21/48(2006.01)
代理机构 北京汇泽知识产权代理有限公司 代理人 张瑾
主权项 1. 一种新型多层无芯支撑结构的制作方法,其特征在于,该制作方法包含有阶段:I-在牺牲载体上制作含有由绝缘材料包围的传导通孔的膜;II-从牺牲载体上剥离所述膜,形成独立式层状阵列;所述膜含有位于绝缘材料中的通孔阵列。
地址 以色列米得哈曼