可导电耦合的电离子反应器的热布置

摘要

本发明揭示一种用于在制程室中提供来源以感应地产生等离子的RF线圈组件。该RF线圈组件包含一置于处理室周边附近的RF线圈，及一置于该处理室周边附近的框架。该框架适于将RF线圈支撑在定位。一接口材料是置于该框架及一处理室的侧壁间且与其热接触。该接口材料具有4.0W/mK或更高的热导率。

主权项

1.一种RF线圈组件，其是用于在一处理室中提供一来源以感应地产生一等离子，该RF线圈组件包含：一RF线圈，其是置于该处理室的一周边附近；一框架，其是置于该处理室的一周边附近，且适于将该RF线圈支撑在定位；及一接口材料，其是置于该框架及该处理室的一侧壁间且与其热接触，该接口材料具有3.0W/mK或更高的热导率。