发明名称 薄膜晶体管阵列板的制造方法
摘要 在衬底上形成栅极布线;接着,在形成一栅极绝缘膜后,在其上顺序形成一半导体层和一欧姆接触层;其次,形成数据布线;再沉积一钝化层和一有机绝缘膜并对其进行构图,以形成分别用于暴露漏极电极、栅极衬垫和数据衬垫的接触孔,其中,所述接触孔周围的有机绝缘膜形成得比其它部分中的有机绝缘膜薄;然后,通过灰磨工艺去除接触孔周围的有机绝缘膜,以暴露接触孔中的钝化层的边界线,从而消除钻蚀,之后,形成分别连接至漏极电极、栅极衬垫和数据衬垫的一像素电极、一辅助栅极衬垫和一辅助数据衬垫。
申请公布号 CN100411193C 申请公布日期 2008.08.13
申请号 CN02804810.5 申请日期 2002.10.08
申请人 三星电子株式会社 发明人 金保成;郑宽旭;洪完植;金湘甲;洪雯杓
分类号 H01L29/786(2006.01);H01L23/52(2006.01);H01L21/768(2006.01);H01L21/28(2006.01);G02F1/1343(2006.01);G02F1/136(2006.01);G02F1/1345(2006.01) 主分类号 H01L29/786(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 陶凤波;侯宇
主权项 1. 一种用于液晶显示器的薄膜晶体管阵列板的制造方法,包括:形成一栅极线、连接至该栅极线的一栅极电极以及连接至该栅极线的一端的一栅极衬垫;沉积一栅极绝缘膜;形成一半导体层;形成一数据线、连接至所述数据线的一源极电极、与和所述栅极电极相应的源极电极相对的一漏极电极、和连接至所述数据线的一数据衬垫;沉积一绝缘膜;在该绝缘膜上形成感光有机绝缘膜图案;用该有机绝缘膜图案作为刻蚀掩模刻蚀所述绝缘膜,以形成用于暴露所述栅极衬垫或数据衬垫的多个第一接触孔和所述绝缘膜和有机绝缘膜图案的钻蚀结构;进行灰磨工艺,以暴露所述多个第一接触孔内的绝缘膜的边界线;以及形成经所述多个第一接触孔连接至所述栅极衬垫或数据衬垫的一辅助衬垫。
地址 韩国京畿道