发明名称 |
Silica glass containing TiO2 and process for its production |
摘要 |
A silica glass containing TiO<SUB>2</SUB>, which has a fictive temperature of at most 1,200° C., an OH group concentration of at most 600 ppm and a coefficient of thermal expansion of 0±200 ppb/° C. from 0 to 100° C.
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申请公布号 |
US7410922(B2) |
申请公布日期 |
2008.08.12 |
申请号 |
US20050172872 |
申请日期 |
2005.07.05 |
申请人 |
ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED |
发明人 |
IWAHASHI YASUTOMI;KOIKE AKIO |
分类号 |
C03B20/00;C03C3/06;C03C3/076;C03C4/00;H01L21/027 |
主分类号 |
C03B20/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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