| 摘要 |
<p>L'invention se rapporte à un patin de polissage chimique-mécanique (100) ayant une piste de polissage annulaire et un centre concentrique (O). Le patin de polissage (100) comprend une couche de polissage ayant une multiplicité de rainures de patin (116) formées dedans. Le patin de polissage (100) est conçu pour une utilisation avec un support (104), par exemple un support de rondelle, qui comprend un anneau de polissage ayant une multiplicité de rainures de support (112). Chaque rainure de la multiplicité de rainures de patin (116) a une forme de rainure compatible avec le support configurée afin d'améliorer le transport d'un agent de polissage sous l'anneau de support (108) sur le bord avant (124) de l'anneau de support (108) pendant le polissage.</p> |
