Reflektives optisches Element für EUV-Lithographievorrichtungen

摘要

Zur Erhöhung der maximalen Reflektivität reflektiver optischer Elemente bei einer Arbeitswellenlänge im EUV- oder weichen Röntgenwellenlängenbereich wird zwischen den Absorberlagen (22) und den Spacerlagen (21) eine erste zusätzlich Zwischenlage (23a, b) zur Erhöhung der Reflektivität und eine zweite zusätzliche Zwischenlage (24a, b) zur Verhinderung chemischer Interaktion zwischen der ersten zusätzlichen Zwischenlage (23a, b) und der angrenzenden Spacerlage (21) bzw. Absorberlage (22) vorgesehen.