发明名称 基底单面分子自组装超薄膜制备装置
摘要 本实用新型公开了一种基底单面分子自组装超薄膜制备装置,属超薄膜制备技术领域。它由圆形封盖、聚四氟密封垫、圆形载玻片和螺纹底座组成,使用时,将待修饰的基底置于粘合在螺纹底座上端的圆形载玻片正中位置,再将聚四氟密封垫贴合于基底表面上,然后将带孔圆形封盖拧紧,通过圆形封盖的中心孔往聚四氟密封垫内加入一定量的反应溶液,薄膜封口,防止溶液挥发。待反应完成后,取出基底,得到仅在基底一面吸附的分子自组装超薄膜。该装置具有成本低廉、结构简单、操作方便等特点,可满足不同温度条件下在基底单面自组装成膜的需求,实用性强,适用面广。
申请公布号 CN201096722Y 申请公布日期 2008.08.06
申请号 CN200720088095.2 申请日期 2007.11.09
申请人 武汉大学 发明人 曾昭睿;雷云;戴明
分类号 G01N21/55(2006.01) 主分类号 G01N21/55(2006.01)
代理机构 武汉华旭知识产权事务所 代理人 张火春;刘荣
主权项 1、一种基底单面分子自组装超薄膜制备装置,其特征在于:由圆形封盖、聚四氟密封垫、圆形载玻片和螺纹底座组成,它们自上而下依次排列。
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