| 发明名称 | 用于分析晶片上污染物的设备以及方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种用于分析晶片上污染物的设备和方法。该设备包括：晶片夹具，用于支撑在其上布置有待分析的污染物的晶片；激光切割器件，用于向晶片辐射激光以从晶片提取分离的样本；分析盒，用于收集通过辐射所述激光从晶片的表面分离的样本；以及与分析盒连接的分析器件，用于从收集的分离样本分析污染物。 | ||
| 申请公布号 | CN101236913A | 申请公布日期 | 2008.08.06 |
| 申请号 | CN200710303593.9 | 申请日期 | 2007.12.24 |
| 申请人 | 三星电子株式会社;檀国大学校产学协力团 | 发明人 | 李宰硕;任兴彬;柳元景;蔡胜基;李阳求;李宪定 |
| 分类号 | H01L21/66(2006.01);G01N21/94(2006.01) | 主分类号 | H01L21/66(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波 |
| 主权项 | 1、一种用于分析晶片上污染物的设备，包括：晶片夹具，用于支撑在其上布置有待分析的污染物的晶片；激光切割器件，用于向所述晶片辐射激光以从晶片提取分离的样本；分析盒，用于收集通过辐射所述激光从晶片的表面分离的样本；以及分析器件，与所述分析盒连接，用于从收集的分离样本分析污染物。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||