发明名称 单模和多模包层模干涉特种光纤及其制备方法
摘要 本发明涉及一种单模和多模包层模干涉特种光纤及其制备方法。本光纤由纤芯、干涉内包层和外包层组成,干涉内包层夹于在纤芯和外包层之间,且具有比纤芯和外包层低的折射率。本光纤的制备方法是采用改进的化学气相沉积MCVD、管外气相沉积法OVD,在制棒机上直接制成光纤预制棒,然后进行拉制光纤。本发明的单模和多模包层模干涉特种光纤具有性能稳定、制备简单、使用灵活、便于批量生产等特点,可应用于光纤通信器件和光纤传感器等领域的光纤光谱滤波器、色散补偿器、光纤压力传感器、光纤温度传感器,等等。
申请公布号 CN101236273A 申请公布日期 2008.08.06
申请号 CN200810034120.8 申请日期 2008.02.29
申请人 上海大学 发明人 王廷云;庞拂飞;陈振宜;向文超;梁文斌
分类号 G02B6/036(2006.01);C03B37/018(2006.01) 主分类号 G02B6/036(2006.01)
代理机构 上海上大专利事务所 代理人 何文欣
主权项 1.单模和多模包层模干涉特种光纤,它由纤芯(1)、干涉内包层(2)和外包层(3)组成,其特征在于纤芯(1)的材料是由纯石英芯掺杂GeO2材料构成,它的折射率要大于纯石英材料;干涉内包层(2)的材料是由纯石英掺杂低折射率的添加物B2O3 或氟F组成,其掺杂浓度为200~400ppm,包层厚度为5~10μm;而外包层(3)的材料是纯石英;干涉内包层(2)夹在纤芯(1)和外包层(3)之间,且具有比纤芯(1)和外包层(3)低的折射率。
地址 200444上海市宝山区上大路99号