发明名称 | 束阻挡件和束调整方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种用于减轻与离子注入有关的污染的系统、方法、以及装置。本发明提供离子源、终点站、以及设置在离子源与终点站之间的质量分析器,其中由离子源形成离子束,且根据射束阻挡组件的位置,选择性地经由质量分析器将离子束传送至终点站。该射束阻挡组件选择性地防止离子束进入和/或射出质量分析器,因此将转换期间例如离子注入系统开机期间与不稳定离子源有关的污染最小化。 | ||
申请公布号 | CN101238538A | 申请公布日期 | 2008.08.06 |
申请号 | CN200680028482.5 | 申请日期 | 2006.06.02 |
申请人 | 艾克塞利斯技术公司 | 发明人 | J·范德波特;Y·Z·黄 |
分类号 | H01J37/244(2006.01) | 主分类号 | H01J37/244(2006.01) |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 刘杰;王小衡 |
主权项 | 1.一种用于质量分析器的射束阻挡组件,该射束阻挡组件包括:进入射束阻挡件,其通常沿着离子束路径、靠近质量分析器的入口设置,该进入射束阻挡件相对于离子束选择性地设置,其中该进入射束阻挡件操作成根据该进入射束阻挡件相对于离子束的位置,以选择性地防止离子束进入质量分析器。 | ||
地址 | 美国马萨诸塞州 |