用于衬底处理腔室的工艺配件

摘要

一种工艺配件，包含护板和放置在处理腔室中的衬底支架周围的环组件，该环组件用于减少工艺沉积物沉积在内部腔室组件和衬底的悬臂边缘上。该护板包含：圆柱带，该圆柱带具有围绕溅射靶的顶壁和围绕衬底支架的底壁；支撑壁架；倾斜阶梯；和具有气体热导孔的U型沟道。该环组件包含沉积环和盖环，盖环在环周界周围具有球形隆凸。

主权项

1、一种护板，其在衬底处理腔室中用于围绕面对衬底的溅射靶，所述护板包含：(a)圆柱带，其具有围绕溅射靶的顶壁和围绕衬底支架的底壁；(b)支撑壁架，其从圆柱带的顶壁径向向外延伸；(c)倾斜阶梯，其从圆柱带的底壁径向向内延伸；以及(d)U型沟道，其接合到倾斜阶梯，并且该沟道围绕衬底支架，该U型沟道包含第一和第二腿部件；第一腿部件具有多个气孔以允许工艺气体经过，从而该气孔提供上升的气体热导。