| 发明名称 | 用于调节磁头单元角位置的方法和装置 | ||
| 摘要 | 能够从弹性部件的一个小位移产生静态角位置中的一个显著改变。在磁头单元(95)中的弹性部件(12)受应力以便调节该静态角位置，同时，该应力区域(14)由一个激光束LA照射。 | ||
| 申请公布号 | CN100409354C | 申请公布日期 | 2008.08.06 |
| 申请号 | CN01121290.X | 申请日期 | 2001.06.13 |
| 申请人 | TDK株式会社 | 发明人 | 细川明博;山口哲;大桥诚;林光雄 |
| 分类号 | G11B21/21(2006.01) | 主分类号 | G11B21/21(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 蔡民军;林长安 |
| 主权项 | 1. 一种调节包括一个磁头支架和一个磁头的磁头单元的静态角位置的方法，该磁头支架包括一个连接该磁头的弹性部件，包括步骤：对装有所述磁头的所述弹性部件上施加一个弯曲，以便调整该静态角位置；通过一个激光发射器单元把一个激光束照射在施加有该弯曲的该弹性部件的区域；对该弹性部件被施加弯曲的区域进行成像；提供一个控制器单元，用于根据来自测量所述弹性部件的位移的位移测量单元的一个检测信号控制所述激光发射器单元和对所述弹性部件施加弯曲以调整所述静态角位置的角位置修正单元的操作；从而施加弯曲于该弹性部件所引起的应力是通过该激光束照在该弹性部件上而得以减轻或减缓。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||