| 发明名称 | 微透镜阵列基片及其制造方法和显示器 | ||
| 摘要 | 一种微透镜阵列基片的制造方法，包括以下步骤：形成基片(32)的步骤，所述基片具有带多个曲面部(12)的第1原板(10)，和带多个凸部(22)的第2原板(20)，和在它们之间紧贴基片前身(30)，由所述曲面部(12)形成的多个透镜(34)，和由凸部(22)形成的多个凹部(36)；从所述基片(32)剥离所述第1以及第2原板(10、20)的步骤；至少在剥离所述第2原板(20)之后，在所述凹部(36)填充遮光材料的步骤。 | ||
| 申请公布号 | CN100409034C | 申请公布日期 | 2008.08.06 |
| 申请号 | CN99800721.8 | 申请日期 | 1999.05.10 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 西川尚男 |
| 分类号 | G02B3/00(2006.01);B29D11/00(2006.01) | 主分类号 | G02B3/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 姜郛厚;叶恺东 |
| 主权项 | 1. 一种微透镜阵列基片的制造方法，包括以下步骤：在带多个曲面部的第1原板和带多个凸部的第2原板之间设置基片前身的步骤；将所述第1和第2原板紧贴于所述基片前身，使得所述凸部与避开所述曲面部中心的区域相对，由所述曲面部形成多个透镜，由所述凸部形成多个凹部的步骤；从由所述基片前身形成的基片剥离所述第1以及第2原板的步骤；至少在剥离所述第2原板之后，在所述凹部填充遮光材料的步骤。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||