发明名称 电光装置的制造方法和制造装置、电光装置和电子设备
摘要 制造能够进行高质量的图像显示且能够实现长寿命化的电光装置,并且提高成品率。电光装置的制造方法,包括:第1工序,该工序在夹持电光物质的一对基板的至少一方的基板面上形成电极;第2工序,该工序将由无机材料构成的取向膜的基底膜,通过将无机材料的飞行方向相对于基板面所成的角度以使相对于该飞行方向电极的阴影不是总在1处产生的方式设定为1个或多个值进行第1PVD法而形成在电极的上层侧;以及第3工序,该工序将由无机材料构成的上述取向膜,通过将上述角度固定为与在第1PVD法设定的值不同的指定值或以与第1PVD法不同的成膜条件进行第2PVD法而形成在上述基底膜的上层侧。
申请公布号 CN100409084C 申请公布日期 2008.08.06
申请号 CN200510114326.8 申请日期 2005.10.20
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 清水雄一
分类号 G02F1/1337(2006.01) 主分类号 G02F1/1337(2006.01)
代理机构 北京市中咨律师事务所 代理人 李峥;于静
主权项 1. 一种电光装置的制造方法,是制造具有夹持电光物质而构成的一对基板的电光装置的电光装置的制造方法,其特征在于,包括:第1工序,该工序在上述一对基板的至少一方的基板的成为与上述电光物质相对的基板面上形成用于按每个像素的方式对上述电光物质施加指定电压的电极;第2工序,该工序将由无机材料构成的取向膜的基底膜,通过将上述无机材料的飞行方向相对于上述基板面所成的角度设定为垂直或包括垂直的多个值进行第1PVD法而形成在上述电极的上层侧;以及第3工序,该工序将由无机材料构成的上述取向膜,通过将上述角度固定为与在上述第1PVD法设定的值不同的指定值或以与上述第1PVD法不同的成膜条件进行第2PVD法而形成在上述基底膜的上层侧。
地址 日本东京都