发明名称 铜导体浆料、导体电路板和电子部品
摘要 一种铜导体浆料,可形成不严格地进行烧成时的气氛控制也能够得到高的密着力,并因电镀处理而导致的密着力下降也很少的铜导体膜。该铜导体浆料含有以铜粉为核心的导电性粉末、有助于提高浸润性的第一玻璃熔料、有助于提高耐药品性的第二玻璃熔料、和有机媒介物。其中,(1)第一玻璃熔料,其软化点为800℃以下,在900℃的氮气氛中,相对于实质上表面没有被氧化的铜粉的接触角为60度以下。(2)第二玻璃熔料相对于25℃的10质量%浓度硫酸水溶液的溶解度为1mg/cm<SUP>2</SUP>·hr以下。(3)第一玻璃熔料的软化点和第二玻璃熔料的软化点之差为150℃以下。(4)相对于玻璃熔料的总量,第一玻璃熔料的含有量为10~70质量%,第二玻璃熔料的含有量为30~90质量%。
申请公布号 CN101236797A 申请公布日期 2008.08.06
申请号 CN200810008710.3 申请日期 2008.01.24
申请人 三之星机带株式会社 发明人 林耀广
分类号 H01B1/16(2006.01);H05K1/09(2006.01) 主分类号 H01B1/16(2006.01)
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人 陆锦华;黄启行
主权项 1.一种铜导体浆料,至少含有以铜粉为核心的导电性粉末、玻璃熔料、有机媒介物而形成,其特征在于,作为玻璃熔料,至少含有:有助于提高浸润性的第一玻璃熔料、和有助于提高耐药品性的第二玻璃熔料,而且第一玻璃熔料和第二玻璃熔料满足以下的条件:(1)第一玻璃熔料,其软化点为800℃以下,在900℃的氮气氛中,相对于由表面实质上没有被氧化的铜粉形成的膜的接触角为60度以下,(2)第二玻璃熔料相对于25℃的10质量%浓度硫酸水溶液的溶解度为1mg/cm2·hr以下,(3)第一玻璃熔料的软化点和第二玻璃熔料的软化点之差为150℃以下,(4)相对于玻璃熔料的总量,第一玻璃熔料的含有量为10~70质量%,第二玻璃熔料的含有量为30~90质量%。
地址 日本国兵库县