厚膜型光致抗蚀剂及其使用方法

摘要

本发明提供了能将光致抗蚀剂涂层、处理成厚涂层，例如干燥(后软烘烤)层厚度超过2微米的新的方法和组合物。根据本发明，光致抗蚀剂可以短波长辐射成象。

主权项

1. 一种获得抗蚀剂凹凸图象的方法，该方法包括：将正型光致抗蚀剂液体涂敷在基体表面上形成涂层，其中光致抗蚀剂包含a)光致生酸剂、和b)包含i)酚单元和ii)包含光致生酸不稳定基团的丙烯酸酯单元的树脂，该树脂的Mw分子量为20000或更低；除去光致抗蚀剂涂层中的溶剂，以形成厚度为至少3微米的涂层；使光致抗蚀剂涂层在构图的活性辐射下曝光；加热已曝光的光致抗蚀剂涂层至不超过115℃温度；以及使光致抗蚀剂涂层显影从而获得抗蚀剂凹凸图象。