发明名称 光调制器及其制造方法
摘要 目的在于提供一种光调制器及其制造方法,该光调制器采用了厚度为20μm以下的薄板,并且能够稳定地保持对基板内的微波的共振现象或热电效果等不良情况进行抑制的导电膜。一种光调制器,包括:厚度为20μm以下的薄板(10),其由具有电光学效果的材料形成;光波导(11),其形成在该薄板的表面或背面;和调制电极(13,14),其形成在该薄板的表面,用于对通过该光波导内的光进行调制;上述光调制器具有:增强板(16),其被接合在该薄板的背面;和导电膜(17),其从该薄板的侧面到该增强板的侧面连续地形成。
申请公布号 CN101238404A 申请公布日期 2008.08.06
申请号 CN200680028489.7 申请日期 2006.09.27
申请人 住友大阪水泥股份有限公司 发明人 神力孝;近藤胜利;齐藤勉
分类号 G02F1/035(2006.01) 主分类号 G02F1/035(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 李香兰
主权项 1、一种光调制器,包括:厚度为20μm以下的薄板,其由具有电光学效果的材料形成;光波导,其形成在该薄板的表面或背面;和调制电极,其形成在该薄板的表面,用于对通过该光波导内的光进行调制;上述光调制器具有:增强板,其被接合在该薄板的背面;和导电膜,其从该薄板的侧面到该增强板的侧面连续地形成。
地址 日本东京