带有介电间隔环的边缘环组件

摘要

边缘环组件围绕等离子体蚀刻室中基片支撑件表面。该边缘环组件包括边缘环和介电间隔环。该介电间隔环围绕该基片支撑件表面并且在径向方向上被该边缘环围绕，该介电间隔环配置为将该边缘环与该基板绝缘。围绕该基片支撑件表面整合该边缘环组件可降低在基片下侧和沿该基片边缘的聚合物堆积，并可增加基片的等离子体蚀刻均一性。

主权项

1.一种边缘环组件，其适于围绕在等离子体蚀刻室中的基片支撑件表面，所述边缘环组件包括：边缘环，其尺寸适于位于设在所述室内的基片支撑件表面上的基片之下，并提供在所述基片的下表面和所述边缘环的上表面之间的隙距；以及在所述边缘环和所述基片支撑件表面之间的介电间隔环，所述介电间隔环的尺寸适于在位于所述基片支撑件表面上的基片的下表面和所述介电间隔环的上表面之间提供隙距。