| 发明名称 | 用于化学机械抛光的分散体 | ||
| 摘要 | 一种水分散体，其pH值在3和7之间，包含1－35重量％磨料，所述磨料是比表面积为50－200m<SUP>2</SUP>/g且平均聚集体直径小于200nm的热解氧化铝。 | ||
| 申请公布号 | CN101235254A | 申请公布日期 | 2008.08.06 |
| 申请号 | CN200710106544.6 | 申请日期 | 2007.06.01 |
| 申请人 | 德古萨有限责任公司 | 发明人 | (发明人请求不公开姓名) |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01);H01L21/304(2006.01) | 主分类号 | C09G1/02(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 于辉 |
| 主权项 | 1. 一种水分散体，其pH值在3和7之间且包含1-35重量％的磨料，所述磨料是比表面积为50-200m2/g且平均聚集体直径小于200nm的热解氧化铝。 | ||
| 地址 | 德国杜塞尔多夫市 | ||