| 主权项 |
1.一种制造根据式B的酮颜料或其固体溶液之方法，包含氧化具有式A的对应6,13-二氢酮之盐或两种或更多种具有式A的6,13-二氢酮之盐的混合物其中X及Y分别为1或2个选自H、F、Cl、C1-C4烷基及C1-C4烷氧基组成的组群之取代基，该反应系于至少一种含(杂)芳族羟基的化合物的存在下进行，且该化合物不含颜料部分以及氧化剂其中该含(杂)芳族的羟基化合物为式I化合物k为1或2；以及当k为1时，G为氢或-OR25E1与E2各自分别为式Ia或Ib之基团R25为氢；C1-C18烷基；C1-C18烷基，其经以OH、卤原子、-COOH、-COOR29、-CONH2、-CONHR30、-CON(R30)(R31)、-NH2、NHR30、-N(R30)(R31)、-NHCOR32、-CN、COR32、-OCOR32、苯氧基及/或C1-C18烷基-、C1-C18烷氧基-或卤原子取代之苯氧基所取代；C3-C50烷基系被-O-所嵌设，且可经以OH取代；C3-C6烯基；缩水甘油基；C5-C12环烷基；经以OH、C1-C4烷基或-OCOR32取代之C5-C12环烷基；C7-C11苯基烷基，其为未经取代或经以OH、Cl、C1-C18烷氧基或C1-C18烷基取代；-COR32或-SO2-R33；或是具有下式中之一者的基团：其中T为氢；C1-C8烷基；C2-C8烷基，其经以一或多个羟基或一或多个醯氧基所取代；氧基；羟基；-CH2CN；C1-C18烷氧基；C5-C12环烷氧基；C3-C6烯基；C7-C9苯烷基；C7-C9苯烷基，其于苯环经以C1-C4烷基取代一次、二次或三次；或为脂肪族C1-C8烷醯基；R24为氢；C1-C24烷基或C5-C12环烷基；或为C1-C24烷基或C5-C12环烷基，其经以1至9个卤原子、OH、OR25、卤原子、-COOH、-COOR29、-CONH2、-CONHR30、-CON(R30)(R31)、-NH2、NHR30、-N(R30)(R31)、-NHCOR32、-CN、COR32、-OCOR32、-CN、-NO2、-SR32、-SOR32、-SO2R32、-P(O)(OR25)2、吗基、啶基(piperidinyl)、2,2,6,6-四甲基啶基、基(piperazinyl)或N-甲基基所取代或经以其组合所取代；或C5-C12环烷基或C1-C24烷基，其被1至6个伸苯基、-O-、-NR29-、-CONR29-、-COO-、-OCO-、-CH(R33)-、-C(R33)2-或-CO-基或此等之组合所嵌设；或R24为C2-C24烯基；卤原子；-SR32、SOR32；SO2R32；-SO3H；或SO3M；R26、R27及R28各自分别为H、C1-C12烷基；C2-C6烯基；C1-C18烷氧基；C5-C12环烷氧基；C2-C18烯氧基；卤原子；-C≡N；C1-C4卤烷基；C7-C11苯烷基；COOR29；CONH2；-CONHR30；-CON(R30)(R31)；磺基(sulfo)；C2-C18醯胺基；OCOR32；苯氧基；或苯氧基，其经以C1-C18烷基、C1-C18烷氧基或卤原子取代；R29为C1-C18烷基；C3-C18烯基；C3-C50烷基，其经由O、NH、NR30或S所嵌设及/或经OH取代；缩水甘油基；C5-C12环烷基；C1-C4烷基环己基；苯基；C7-C14烷基苯基；C6-C15双环烷基；C6-C15双环烯基；C6-C15三环烷基；C6-C15双环烷基烷基；或C7-C11苯基烷基；R30及R31各自分别为C1-C12烷基；C3-C12烷氧烷基；C2-C8烷醯基；C4-C16二烷基胺基烷基或C5-C12环烷基；或R30及R31共同为C3-C9伸烷基或-氧杂伸烷基或-氮杂伸烷基；R32为C1-C18烷基；C1-C12烷氧基；C2-C18烯基；C7-C11苯烷基；C7-C11苯烷氧基；C6-C12环烷基；C6-C12环烷氧基；苯氧基或苯基；或为C3-C50烷基，其被-O-所嵌设且可经OH取代；R33为C1-C18烷基；C2-C18烯基；C6-C12环烷基；但至少一个G为-OR25基；当k=2时，E1及E2为具有式Ia之基团；G为C2-C16伸烷基，C4-C12伸烯基，伸二甲苯基(xylylene)，C3-C20伸烷基，其被O所嵌设及/或经OH取代，或为一具有式-CH2CH(OH)CH2O-R34-OCH2CH(OH)CH2-，-CO-R35-CO-，-CO-NH-R36-NH-CO-，-(CH2)j -COO-G20-OOC-(CH2)j-的基团，其中j为1至3之数目，或为R34为C2-C10伸烷基；C4-C50伸烷基，其被O、伸苯基或-伸苯基-E-伸苯基所嵌设，其中E为-O-、-S-、-SO2-、-CH2-、-CO-或-C(CH3)2-；R35为C2-C10伸烷基，C2-C10氧杂伸烷基，C2-C10硫杂伸烷基，C6-C12伸芳基或C2-C6伸烯基；R36为C2-C10伸烷基，伸苯基，伸甲苯基，二伸苯基甲烷或式基团；M为硷金属。2.一种制造根据式B的酮颜料或其固体溶液之方法，包含氧化具有式A的对应6,13-二氢酮之盐或二或更多种具有式A的6,13-二氢酮之盐的混合物其中X及Y分别为1或2个选自于H、F、Cl、C1-C4烷基及C1-C4烷氧基组成的组群中之取代基，该反应系于至少一种含(杂)芳族羟基或酮基的化合物之存在下进行，且该化合物不含颜料部分以及氧化剂，其中该含(杂)芳香族羟基或酮基的化合物为式II-XI化合物其中R37、R38、R39及R40各自分别为氢、OH、C1-C20烷基、C1-C20烷氧基、Cl、Br、F、COOH；COOR29；CN；CON(R30)2；N(R30)2；其中R29及R30定义如申请专利范围第1项；以及NO2或以式XII表示之此处R40及R41各自分别选自于氢、C1-C4烷基、C1-C4烷氧基或Cl、Br或F。3.如申请专利范围第1项之方法，其中该(杂)芳香族化合物为G为氢原子或-OR25，k为1，E1及E2各自分别为式Ia或Ib基团R25为氢；C1-C18烷基；C1-C18烷基，其经以OH、-COOR29取代；R24为氢；C1-C24烷基或C5-C12环烷基；R26、R27及R28各自分别为氢、C1-C12烷基或C1-C18烷氧基；R29为C1-C18烷基；但至少一个G为OR25基。4.如申请专利范围第2项之方法，其中R37、R38、R39及R40各自分别为氢、OH、C1-C20烷基、C1-C20烷氧基、Cl、Br、F或COOH。5.如申请专利范围第2项之方法，其中该(杂)芳香族化合物系选自于由间苯二酚、氢、酚、儿茶酚、间苯三酚(phloroglucinol)、二羟苯甲酸、邻苯三酚(pyrogallol)、及二羟-2-甲酸所组成的组群中。6.一种组成物，包含：a)以式B表示之酮其中X及Y各自分别为1或2个选自H、F、Cl、C1-C4烷基及C1-C4烷氧基组成的组群之取代基，b)有效量之如申请专利范围第1项之方法之具有式I的含(杂)芳香族羟基化合物。7.一种组成物，包含一种高分子量有机材料及有效染色量之如申请专利范围第1至5项中任一项之方法所制备之颜料或如申请专利范围第6项之组成物。8.一种着色高分子量有机材料之方法，包含搀混有效染色量之如申请专利范围第1至5项中任一项之方法所制备之颜料或如申请专利范围第6项之组成物至一高分子量有机材料。9.一种组成物，包含：a)以式A表示之酮前驱物其中X及Y各自分别为氢、卤原子、C1-C4烷基或C1-C4烷氧基，以及b)有效量之如申请专利范围第1项之方法之具有式I或如申请专利范围第2项之方法之具有式II-XII的含(杂)芳香族羟基或酮基化合物。10.一种如申请专利范围第1项之方法之具有式I或如申请专利范围第2项之方法之具有式II-XII的含(杂)芳香族羟基或酮基化合物之用途，其系供用作为相导引剂及/或粒子大小缩减剂。图式简单说明：第1图为实例1产物之X光绕射图样。第2图为实例2产物之X光绕射图样。第3图为实例3产物之X光绕射图样。第4图为实例4产物之X光绕射图样。第5图为实例5产物之X光绕射图样。第6图为实例6产物之X光绕射图样。第7图为实例7产物之X光绕射图样。第8图为实例8产物之X光绕射图样。第9图为实例9产物之X光绕射图样。第10图为实例10产物之X光绕射图样。第11图为实例11产物之X光绕射图样。第12图为实例12产物之X光绕射图样。第13图为实例13产物之X光绕射图样。第14图为实例14产物之X光绕射图样。第15图为实例15产物之X光绕射图样。第16图为实例16产物之X光绕射图样。第17图为实例17产物之X光绕射图样。 |
