低温多晶矽薄膜制作方法

摘要

一种低温多晶矽薄膜制作方法，其包括以下步骤：提供一基板，并于该基板上形成一缓冲层；于该缓冲层上沈积一第一非晶矽薄膜；藉由一光罩制程，蚀刻该第一非晶矽薄膜，于该缓冲层上保留复数分散之非晶矽颗粒；于该缓冲层上沈积一覆盖该非晶矽颗粒之第二非晶矽薄膜；对该第二非晶矽薄膜进行再结晶工艺，使该第二非晶矽薄膜熔融后以该复数非晶矽颗粒为晶种再结晶，形成一多晶矽薄膜。