发明名称 靶材以及该靶材所制造的薄膜
摘要 本发明主要系一种靶材,其元素组成为IB#sB!x#eB!-IIIA#sB!y#eB!-VIA#sB!z#eB!;其中,IB系至少选自于一种以下之群组:Cu及Ag;IIIA系至少选自于一种以下之群组:In及Ga;VIA系至少选自于一种以下之群组:S、Se及Te;x为IB含量的原子百分比、y为IIIA含量的原子百分比、z为VIA含量的原子百分比,且满足0≦x<1、0≦y<1、0<z<1,x+y+z=1;该靶材的制法系包含以下步骤:形成预合金:将一靶材元素与靶材元素组成中一种以上的其他元素合成预合金;造粉:将预合金制成粉末;混粉:将此粉末直接混合或再与其他元素或预合金粉末混合;烧结:混合粉末经烧结后形成靶材;本发明另包含一种用于太阳能电池的薄膜,其系使用上述之靶材溅镀制成。
申请公布号 TW200832727 申请公布日期 2008.08.01
申请号 TW096101775 申请日期 2007.01.17
申请人 光洋应用材料科技股份有限公司 发明人 李仲仁;赵勤孝;毛庆中
分类号 H01L31/042(2006.01);H01L31/032(2006.01);H01L31/0336(2006.01) 主分类号 H01L31/042(2006.01)
代理机构 代理人 桂齐恒;阎启泰
主权项
地址 台南县官田乡二镇村成功街85号