发明名称 半导体装置、积层型半导体装置及中介基板
摘要 本发明提供一种应力缓和能力优异的半导体装置、积层型半导体装置以及用于该半导体装置的中介层基板,其中该应力系产生于中介层基板与印刷电路板(母板)之间,或者积层型半导体装置之半导体装置间。BGA型半导体装置(20),具备具有绝缘基板(1)与配线图案(2)的中介层基板(3)、半导体元件(4)、接着半导体元件(4)与中介层基板(3)之间的连接层(5)、以及设置在中介层基板(3)上的焊球(8);绝缘基板(1),设置在半导体元件(4)外侧的焊球(8)搭载部弯曲形成可摺叠部(1a),绝缘基板(1)的未弯曲部分与弯曲部分系以形成空隙(22)的方式相对向着。
申请公布号 TW200832659 申请公布日期 2008.08.01
申请号 TW096138590 申请日期 2007.10.16
申请人 日立电线股份有限公司 发明人 细野真行;柴田明司;稻叶公男
分类号 H01L23/495(2006.01);H01L23/488(2006.01) 主分类号 H01L23/495(2006.01)
代理机构 代理人 桂齐恒;阎启泰
主权项
地址 日本