发明名称 |
制程控制的活性粒子捕捉 |
摘要 |
一种粒子隔离系统,包括:半导体制程室;至少一个构件,在半导体制程室内,其中所述构件至少具有第一位置与第二位置;以及至少一个具有多个墙壁的隔离区,此隔离区是用该些墙壁来界定,此隔离区的该些墙壁的至少其中之一界定至少一个孔,其中处在第一位置的构件允许粒子经由该孔而从半导体制程室进入此隔离区,以及其中处在第二位置的构件实质上封闭此隔离区,从而将粒子实质上留在隔离区里,且实质上是限制粒子经由该孔而在半导体制程室与隔离区之间移动。本发明也提供一种离子植入系统。 |
申请公布号 |
TW200832506 |
申请公布日期 |
2008.08.01 |
申请号 |
TW096150332 |
申请日期 |
2007.12.26 |
申请人 |
瓦里安半导体设备公司 |
发明人 |
纽南 彼得;雷丁保 葛列格里;布雷克 朱利安;包可思 保罗S. BUCCOS, PAUL S. |
分类号 |
H01L21/02(2006.01);H01L21/265(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/02(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
詹铭文;萧锡清 |
主权项 |
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地址 |
美国 |