| 发明名称 |
决定光谱中铜浓度之方法 |
| 摘要 |
在此描述化学机械研磨期间减去铜对基材光谱之贡献的方法。 |
| 申请公布号 |
TW200832585 |
申请公布日期 |
2008.08.01 |
| 申请号 |
TW096144632 |
申请日期 |
2007.11.23 |
| 申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
班维纽多明尼克Ｊ;大卫杰弗瑞杜鲁;史威克柏格斯劳Ａ;章及明;李哈利Ｑ |
| 分类号 |
H01L21/66(2006.01);H01L21/304(2006.01);B24B49/12(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/66(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财;李世章 |
| 主权项 |
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| 地址 |
美国 |
