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发明名称
利用复合胶膜之用以切割晶圆的方法及半导体封装构造制造方法
摘要
一种用以切割晶圆的方法包含下列步骤:提供一晶圆,其具有一主动表面、一背面及复数个纵向及横向之切割道,其中该等切割道系位于该主动表面上,藉以界定出复数个晶粒;提供一复合胶膜,贴附该复合胶膜于该晶圆的主动表面,其中该复合胶膜包含一第一胶膜及一第二胶膜,该第二胶膜系位于该第一胶带与该晶圆之主动表面间,且该第二胶膜系为透明的;将该晶圆的背面研磨;将该第一胶膜移除;以及沿该等切割道切割附着有该第二胶膜之该晶圆,用以分离该等晶粒。
申请公布号
TW200832532
申请公布日期
2008.08.01
申请号
TW096102445
申请日期
2007.01.23
申请人
日月光半导体制造股份有限公司
发明人
褚福堂;钟启源
分类号
H01L21/302(2006.01)
主分类号
H01L21/302(2006.01)
代理机构
代理人
花瑞铭
主权项
地址
高雄市楠梓加工出口区经三路26号
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