画素结构的制作方法

摘要

一种画素结构的制作方法包括下列步骤。首先，提供一形成有一主动元件之基板并形成一覆盖主动元件之介电层。在主动元件上方形成一具有一开口且不同厚度的第一光阻层。在进行一蚀刻制程以经由开口在介电层中形成一接触窗后，减少第一光阻层厚度，移除部分第一光阻层并暴露出部分介电层。接着，形成一覆盖部分介电层及剩余第一光阻层之透明导电层，且其经由接触窗连接主动元件。在移除剩余之第一光阻层上的透明导电层后，部分介电层上的透明导电层即构成一画素电极。最后，移除剩余之第一光阻层。由于此方法使用光罩数少，可以降低制造成本。