曝光装置和制造装置的方法

摘要

一用于使基板曝光之曝光装置包含一光学系统，其包含二光学元件，且系架构成将由一光源所放射之光线导引至该基板；气体供给区段，其组构成将气体供给至该等光学元件间之空间；及气体排气区段，其组构成由该空间排出该气体。该气体系供给至该空间，使得一涡漩流动系形成在该空间中。