| 摘要 |
液浸曝光装置，具备：光学构件，系射出曝光光束；第1可动构件，可在具有包含与光学构件对向之位置之第1区域、以及与第1区域不同之第2区域的既定区域内，保持基板并移动；第2可动构件，可在包含第1区域及第2区域之既定区域内，与第1可动构件独立保持基板并移动；第1连接构件，系以可释放之方式选择性地连接第1可动构件及第2可动构件，以在第1区域内移动一方之可动构件；第2连接构件，系以可释放之方式选择性地连接第1可动构件及第2可动构件，以在第2区域内移动另一方之可动构件；以及第3可动构件，系设于第1连接构件，可移动于与光学构件对向之位置；藉由使第1可动构件、第2可动构件、以及第3可动构件之至少一个移动至与光学构件对向的位置，来以液体持续充满光学构件之射出侧光束路。 |
