发明名称 多孔隙超低介电质材料即时损害侦测方法与量测器
摘要 一种多孔隙超低介电质材料即时损害量测器,包含一第一导电层、一被覆于第一导电层上之多孔隙超低介电质绝缘层,及一与第一导电层相间隔地被覆于绝缘层上之第二导电层。透过该量测器呈导电层-绝缘层-导电层之结构设计,及绝缘层为多孔隙超低介电质材料设计,可藉由预先侦测量测器在积体电路制程环境中的电容值变化,而事先侦测与评估多孔隙超低介电质材料在实际制程中,可能受制程气体、电浆或先驱物破坏的程度,而有助于改善制程,避免或降低积体电路之多孔隙超低介电质材料损坏率,并可节省积体电路晶片研发成本、缩短研发时间。
申请公布号 TW200832581 申请公布日期 2008.08.01
申请号 TW096101606 申请日期 2007.01.16
申请人 国立成功大学 发明人 彭洞清;许国忠;叶嘉斌;方嘉锋;陈智伟;林昇亿
分类号 H01L21/66(2006.01);H01L21/31(2006.01) 主分类号 H01L21/66(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 台南市东区大学路1号