清洁方法、装置及清洁系统

摘要

本发明揭示一种用以清洁一装置之光学元件的方法，该装置经组态以将辐射光束投影至基板之目标部分上，该装置包含复数个按顺序配置于辐射光束之路径中的光学元件，其中该清洁方法包含：利用比该序列中在装置之操作期间接收一或多个第一辐射剂量的一或多个第一光学元件累积较短的清洁周期来清洁该序列中在装置之操作期间接收一或多个相对较低之第二辐射剂量的一或多个第二光学元件，第二辐射剂量低于每一相对较高之第一辐射剂量。