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发明名称 Selective etching of carbon-doped low-k dielectrics
摘要
申请公布号 KR100849707(B1) 申请公布日期 2008.08.01
申请号 KR20040060613 申请日期 2004.07.30
申请人 发明人
分类号 H01L21/3065;H01L21/311 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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