| 发明名称 | 溅射靶、其制造方法以及透明导电膜 | ||
| 摘要 | 一种溅射靶，是包含氧化锌及氧化锡，或者氧化锌、氧化锡及氧化铟的溅射靶，金属或合金分散存在于整个溅射靶中。 | ||
| 申请公布号 | CN101233258A | 申请公布日期 | 2008.07.30 |
| 申请号 | CN200680026929.5 | 申请日期 | 2006.07.24 |
| 申请人 | 出光兴产株式会社 | 发明人 | 矢野公规;井上一吉;田中信夫 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01);C04B35/00(2006.01);C04B35/453(2006.01);H01B5/14(2006.01);H01L51/50(2006.01);H05B33/10(2006.01);H05B33/28(2006.01) | 主分类号 | C23C14/34(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李贵亮 |
| 主权项 | 1.一种溅射靶，其包含氧化锌及氧化锡，或者氧化锌、氧化锡及氧化铟，其中，金属或合金分散存在于整个溅射靶中。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||