发明名称 偏振薄膜的制造方法、利用该方法得到的偏振薄膜及使用该偏振薄膜的图像显示装置
摘要 提供即便使用很宽的坯薄膜也能制造光学特性优良、同时面内的光学特性均一的偏振薄膜的偏振薄膜制造方法。该方法具有将聚合物薄膜染色的染色工序、将染色的上述薄膜延伸的延伸工序、在利用辊子运送经上述两工序处理的上述薄膜时进行干燥的干燥处理工序,其中上述干燥处理工序中,上述辊子至少为2个,在将邻接的上述辊子间距离(R)和上述聚合物薄膜的初期宽度(W)之比(R/W)设定在大于等于0.5且小于等于4.0的条件下进行干燥处理。
申请公布号 CN100406929C 申请公布日期 2008.07.30
申请号 CN200580010683.8 申请日期 2005.03.29
申请人 日东电工株式会社 发明人 和田守正;龟山忠幸;水岛洋明;塘口直树
分类号 G02B5/30(2006.01);G02F1/1335(2006.01);H05B33/02(2006.01);H05B33/14(2006.01) 主分类号 G02B5/30(2006.01)
代理机构 永新专利商标代理有限公司 代理人 陈英俊
主权项 1.一种偏振薄膜的制造方法,其中,具有以下工序:将聚合物薄膜染色的染色工序;将被染色的上述薄膜延伸的延伸工序;以及一边利用辊子运送经上述两工序处理的上述薄膜一边进行干燥的干燥处理工序;在上述干燥处理工序中,上述辊子至少有2个,在将邻接的上述辊子之间距离R和上述聚合物薄膜的初期宽度W之比R/W设定在0.5以上且4.0以下的条件下进行干燥处理。
地址 日本大阪府