| 发明名称 | 多层薄膜图案和显示装置的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明的目的在于提供可简便地获得所希望的形状的图案的多层薄膜图案和显示装置的制造方法。本发明的多层薄膜图案的制造方法具有：在衬底上形成金属膜(3)的步骤；在金属膜(3)上形成第2透明导电性膜(4)的步骤；在第2透明导电性膜(4)上形成抗蚀剂图案(5)的步骤；将抗蚀剂图案(5)作为掩模对第2透明导电性膜(4)进行蚀刻的步骤；采用有机溶剂或RELACS材料使抗蚀剂图案(5)变形以覆盖第2透明导电性膜(4)蚀刻后的端面的步骤；在第2透明导电性膜(4)的端面由抗蚀剂图案(5)覆盖的状态下对金属膜(3)进行蚀刻的步骤。 | ||
| 申请公布号 | CN101231940A | 申请公布日期 | 2008.07.30 |
| 申请号 | CN200710199790.0 | 申请日期 | 2007.11.14 |
| 申请人 | 三菱电机株式会社 | 发明人 | 伊藤康悦;林正美 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/02(2006.01);H01L21/3213(2006.01);H01L21/768(2006.01);G03F7/00(2006.01);G02F1/1335(2006.01);G02F1/1362(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王岳;刘宗杰 |
| 主权项 | 1.一种多层薄膜图案的制造方法，其具有：在衬底上形成第1薄膜的步骤；在上述第1薄膜上形成第2薄膜的步骤；在上述第2薄膜上形成抗蚀剂图案的步骤；将上述抗蚀剂图案作为掩模以对上述第2薄膜进行蚀刻的步骤；采用有机溶剂或RELACS材料使上述抗蚀剂图案变形以覆盖上述第2薄膜的蚀刻后的端面的步骤；以及在上述第2薄膜的端面由抗蚀剂图案覆盖的状态下对上述第1薄膜进行蚀刻的步骤。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||