发明名称 用于制造半导体器件的标线片
摘要 提供一种标线片,在光学光刻系统中使用对准标记,改善了对准或堆栈精度,并减少了对准精度测量的误差或不准确性。标线片具有包括所要求的电路图形的第一区域和包括排列在特定位置的对准标记的第二区域,第一区域和第二区域位于光学曝光设备的曝光范围内。每一个对准标记包括准备形成第一几何形状的标记单元。每一个标记单元具有以第一间距排列在特定方向的主-子单元,以形成第二几何形状。
申请公布号 CN100407051C 申请公布日期 2008.07.30
申请号 CN00120716.4 申请日期 2000.07.07
申请人 恩益禧电子股份有限公司 发明人 藤本匡志
分类号 G03F1/08(2006.01);H01L21/027(2006.01);H01L21/30(2006.01) 主分类号 G03F1/08(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 戎志敏
主权项 1.一种标线片,包括:包括所要求的电路图形的第一区域和包括排列的对准标记的第二区域;所述第一区域和所述第二区域位于光学曝光设备的曝光范围内;每一个所述对准标记(16)包括直线形标记单元(101A、101B、103A和103B),通过在相互垂直的第一和第二方向(X轴和Y轴)上分别排列所述对准标记(101A、101B、103A和103B),形成一个假想正方形;每一个所述直线形标记单元(101A、101B、103A和103B)具有:以第一间距(p1)排列在第一或第二方向(X轴或Y轴)上且平行于所述第二或第一方向(Y轴或X轴)延伸的直线形主-子单元(114);以第二间距(p2)位于标记单元(101A、101B、103A和103B)的一端附近且平行于所述第二或第一方向(Y轴或X轴)延伸的直线形第一辅助子单元(113);以及以第二间距(p2)位于标记单元(101A、101B、103A和103B)的另一端附近且平行于所述第二或第一方向(Y轴或X轴)延伸的直线形第二辅助子单元(115);所述第一辅助子单元以第二间距远离所述主-子单元的第一个单元;所述第二辅助子单元以第三间距远离所述主-子单元的第二个单元;每一个所述主-子单元在所述设备中是可分辨的;每一个所述第一和第二辅助子单元在所述设备中是不可分辨的;所述第一辅助子单元的第二间距和所述第二辅助子单元的第三间距等于所述主-子单元的第一间距。
地址 日本神奈川县