发明名称 Full density Co-W magnetic sputter targets
摘要 <p>Elektroda pro rozprašování v magnetickém poli je opatrená první elementární fází prvního materiálu,pricemž tento první materiál je bud kobalt nebo wolfram, první intermetalickou fází obsahující první materiál a druhý materiál, pricemž druhý materiál je bud wolfram nebo kobalt a je odlišný od prvního materiálu a první materiál je ve vetším atomovém procentuálním obsahu než druhý materiál, a druhou intermetalickou fází obsahující druhý materiál aprvní materiál, kde druhý materiál je ve vetším atomovém procentuálním obsahu než první materiál. Rozprašovací elektroda obsahuje 20-80 at.% kobaltu a má hustotu vetší než 99 % své maximální teoretické hustoty. Tato rozprašovací elektroda se vyrábí výberem kobaltového prášku a wolframového prášku, které mají totéž rozložení velikosti cástic, smícháním kobaltového prášku a wolframového prášku do formy smíseného prášku, uložením smíseného prášku do krabice, slisováním smíseného prášku za tepla pro vytvorení tuhého telesa a strojní obrábení tohoto tuhého telesa do tvaru rozprašovací elektrody.</p>
申请公布号 CZ20070311(A3) 申请公布日期 2008.07.30
申请号 CZ20070000311 申请日期 2007.04.27
申请人 HERAEUS, INC. 发明人 YANG FENGLIN;KUNKEL BERND;KENNEDY STEVEN ROEGER;DAS ANIRBAN
分类号 C23C14/35 主分类号 C23C14/35
代理机构 代理人
主权项
地址