发明名称 基板升降装置和基板处理装置
摘要 本发明提供一种即使在真空处理装置中,也不产生升降销的一端接触,可稳定地使基板升降的基板升降装置和基板处理装置。提升板(32)的围绕筒体(34)为中空状,在天井部(34a)中具有开口,在该开口中插入升降销基端部(9)的下部。在提升板(32)的上面(32a)中,配设球轴承(35),在与提升板(32)相对的围绕筒体(34)的天井部内面(34b)中,配设球轴承(36)。球轴承(35)接触设置在升降销基端部(9)上的法兰(9a)的下面,球轴承(36)接触法兰(9a)的上面,由此以夹入升降销基端部(9)的法兰(9a)的方式支撑升降销(8)。
申请公布号 CN100407398C 申请公布日期 2008.07.30
申请号 CN200610107866.8 申请日期 2006.07.26
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 伊藤毅
分类号 H01L21/687(2006.01) 主分类号 H01L21/687(2006.01)
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 龙淳
主权项 1.一种基板升降装置,配设在基板处理装置的基板载置台上,使基板升降,其特征在于,具有:相对于所述基板载置台的基板载置面能够突出没入地设置,与基板接触,并使其升降的升降销;支撑所述升降销的支撑部;和使所述升降销升降变位的驱动部,所述升降销在其基端部,通过多个球轴承被支撑在所述支撑部上,所述多个球轴承配置在所述升降销的变位方向上,使得所述基端部的全部或一部分被夹入其间。
地址 日本东京