首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
METHOD FOR FORMING ISOLATION LAYER OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号
KR100849064(B1)
申请公布日期
2008.07.30
申请号
KR20020039919
申请日期
2002.07.10
申请人
发明人
分类号
H01L21/76
主分类号
H01L21/76
代理机构
代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
印刷模块和设置有此类印刷模块的印刷机
一种N掺杂碳微米纤维材料及其制备方法和应用
一种太阳能充电音箱
一种高压连接器插座
一种视频监控中发起语音对讲的方法及系统
智能设备的联网工作方法、装置及智能设备
一种PVDF涂覆锂离子电池隔膜及其制备方法
一种云端SIM卡池系统
一种通信信息传输方法、装置及系统
一种镍钴铝氧化物前驱体、镍钴铝氧化物及其制备方法
平面膜片钳装置以及平面膜片钳系统
一种通知消息处理方法及装置
一种具有检测线的负离子发射针排
一种太赫兹量子级联激光器的封装装置及方法
一种自然散热式电池模组
一种数据处理控制装置、图像处理装置和直录播互动系统
制备高温聚碳酸酯的方法
用于交通视频监控的研发实验装置及其控制方法
负压罐盖用铝合金板
用于监控网络的控制方法及系统