| 发明名称 | 显示装置及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种能够在薄膜晶体管中可靠性良好地形成电极的显示装置的制造方法，由如下步骤构成：准备具有依次层叠有栅极信号线、绝缘膜、半导体层及导体层而成的层叠体的基板；至少在薄膜晶体管的形成区域，将光致抗蚀剂膜作为掩模对上述导体层进行选择蚀刻而形成上述薄膜晶体管的漏电极及源电极，这两个电极由如下图案构成：在俯视观察时，一个电极形成为包围另一个电极的前端部、一端侧开放且另一端侧具有结合部的大致U字状，该结合部的与上述另一个电极相反一侧的边上形成有突出部；将使上述光致抗蚀剂膜原样流回而形成的变形光致抗蚀剂膜作为掩模，来对上述半导体层进行蚀刻。 | ||
| 申请公布号 | CN101231973A | 申请公布日期 | 2008.07.30 |
| 申请号 | CN200810003975.4 | 申请日期 | 2008.01.23 |
| 申请人 | 株式会社日立显示器;株式会社IPS先驱高新技术 | 发明人 | 石井美备;上原淳一;渡边邦彦 |
| 分类号 | H01L21/84(2006.01);H01L21/336(2006.01);H01L27/12(2006.01);H01L29/786(2006.01);H01L29/417(2006.01);H01L29/06(2006.01);G02F1/1362(2006.01) | 主分类号 | H01L21/84(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 | 代理人 | 季向冈 |
| 主权项 | 1.一种显示装置的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：准备具有依次层叠有栅极信号线、绝缘膜、半导体层及导体层的层叠体的基板；至少在薄膜晶体管的形成区域上，通过将光致抗蚀剂膜作为掩模对上述导体层进行选择蚀刻来形成上述薄膜晶体管的漏电极和源电极，这两个电极由如下图案构成：在俯视观察时，其中的一个电极形成为包围另一个电极的前端部、一端侧开放且另一端侧具有结合部的大致U字状，该结合部的与上述另一个电极相反一侧的边上形成有突出部；以及将使上述光致抗蚀剂膜原样流回而形成的变形光致抗蚀剂膜作为掩模，来对上述半导体层进行蚀刻。 | ||
| 地址 | 日本千叶县 | ||