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发明名称 Plasma etching method and etching chamber
摘要
申请公布号 EP1949406(A1) 申请公布日期 2008.07.30
申请号 EP20050788045 申请日期 2005.10.05
申请人 PVA TEPLA AG 发明人 HILL, JEFF ALISTAIR
分类号 H01J37/32;C23C14/00;C23C16/00 主分类号 H01J37/32
代理机构 代理人
主权项
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