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发明名称 CYCLIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF METAL-SILICON CONTAINING FILMS
摘要 <p>CYCLIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF METAL-SILICON CONTAINING FILMS</p>
申请公布号 SG144072(A1) 申请公布日期 2008.07.29
申请号 SG20070186125 申请日期 2007.12.12
申请人 AIR PRODUCTS AND CHEMICALS, INC. 发明人 LEI XINJIAN;THRIDANDAM HAREESH;XIAO MANCHAO;BOWEN HEATHER REGINA;GAFFNEY THOMAS RICHARD
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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