| 发明名称 |
Lithographischer Apparat mit einem ausbalancierten Positionierungssystem |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE60036771(T2) |
申请公布日期 |
2008.07.24 |
| 申请号 |
DE20006036771T |
申请日期 |
2000.12.19 |
| 申请人 |
ASML NETHERLANDS B.V. |
发明人 |
KWAN, YIM BUN PATRICK;VAN DE WIEL, WILHELMUS THEODORUS PETRUS |
| 分类号 |
G03F7/20;G12B5/00;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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