| 发明名称 | 偏光板保护膜的碱化处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明一种偏光板保护膜的碱化处理方法。特别是提供一种偏光板的制造方法中，偏光子与保护膜间的接着强度佳的偏光板保护膜的碱化处理方法。该方法包含一种偏光板保护膜的单面碱化处理方法，其方法包含将含有0.01重量％以上的水溶性聚合物或共聚合物的碱性水溶液，涂布在保护膜的单面上，经加热后，再将涂布面上的残渣洗净。 | ||
| 申请公布号 | CN101226253A | 申请公布日期 | 2008.07.23 |
| 申请号 | CN200710000971.6 | 申请日期 | 2007.01.17 |
| 申请人 | 毛利聪;西工业株式会社;奇美材料科技股份有限公司 | 发明人 | 毛利聪;西祯造;陈川彬;黄晨洲 |
| 分类号 | G02B5/30(2006.01);G02B1/10(2006.01);G02F1/1335(2006.01);C08J7/04(2006.01);C08L1/08(2006.01) | 主分类号 | G02B5/30(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 周国城 |
| 主权项 | 1.一种偏光板保护膜的单面碱化处理方法，其包含将含有0.01重量％以上的水溶性聚合物或共聚合物的碱性水溶液，涂布在保护膜的单面上，经加热后，再将涂布面上的残渣洗净。 | ||
| 地址 | 日本崎玉县鸿巢市 | ||