一种选择性降低卷烟烟气中TSNA含量的分子印迹材料及其应用

摘要

一种选择性降低卷烟烟气中TSNA含量的分子印迹材料及其应用。分子印迹材料的制备如下：在合成分子印迹材料其前，先将模板分子和能与之发生分子间作用的功能单体混合使之发生相互作用，形成分子复合物；然后加入交联剂，形成高度交联高分子材料；接着利用化学或者物理方法将模板分子从高分子材料中移去。在聚合物中形成了与模板分子空间匹配，具有特异性排列的多重作用位点的大量空穴，这样的空穴对TSNA分子具有高效选择性。本发明用于卷烟烟气选择性降害时最好能够应用于复合嘴棒中，其添加量可以根据需要任意调节。将本发明物以40mg/支添加到嘴棒中能够在不影响烟气其它组分的情况下降低烟气中TSNA含量24.6％，从而到达选择性降害的目的。

主权项

1.一种选择性降低卷烟烟气中TSNA含量的分子印迹材料，其特征在于：由下述方式制备而成，按摩尔比1∶3～15∶10～25，分别取模板分子、功能单体、交联剂，将模板分子，功能单体溶解于致孔剂中，加入交联剂，引发剂，将上述物质置于反应器中混合均匀，充入氮气，真空，密封，在50～70℃恒温水浴反应12～24小时，产物经过研磨后取40～60目颗粒，用稀酸或者酸与醇的混合溶液将产物中的模板分子以及多于未反应物除去，进一步超声提取，洗涤，真空干燥，即得；所述的模板分子为含吡啶基的有机物。