| 发明名称 | 基板保持机构和等离子体处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种基板保持机构，该基板保持机构包括：用于向载置台(300)和保持在该载置台(300)的基板保持面上的基板(G)之间供给气体的气体流路(352)；将来自气体流路的气体导向基板保持面上的多个气孔(354)；比被处理基板的周边向外侧仅离开规定的错位容许量(b)并沿周边配设的、以比载置台的基板保持面高的方式突出的错位检测用突起(332)；测定流路的压力的压力表(363)；和当将基板保持在载置台上时，根据来自压力测定机构的检测压力对来自气孔的气体的泄漏量进行检测，根据该检测结果对是否有规定的错位容许量以上的基板的错位进行检测的控制部(400)。 | ||
| 申请公布号 | CN101226894A | 申请公布日期 | 2008.07.23 |
| 申请号 | CN200810003447.9 | 申请日期 | 2008.01.15 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 石田宽 |
| 分类号 | H01L21/683(2006.01);H01L21/66(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/683(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 1.一种基板保持机构，在生成等离子体的空间内载置保持由绝缘体构成的矩形的被处理基板，其特征在于，包括：载置保持所述被处理基板的矩形的载置台；用于向所述载置台和保持在该载置台的基板保持面上的被处理基板之间供给气体的气体流路；在所述载置台的基板保持面形成的、将来自所述气体流路的气体导向所述基板保持面上的多个气孔；以使形成所述气孔的区域成为所述基板保持面的内侧的方式，遍及所述气孔形成区域整个面而形成的凹部；在所述基板保持面的所述气孔形成区域的外周形成的框部；在所述框部形成的多个基板错位检测孔；连通所述基板错位检测孔和所述凹部的连通路；对所述气体流路的压力进行测定的压力测定机构；和在将被处理基板保持在所述载置台上时，根据来自所述压力测定机构的检测压力对来自所述气孔的气体的泄漏量进行检测，并根据该检测结果对所述被处理基板是否有所述规定的错位容许量以上的错位进行检测的错位检测机构。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||