基板处理装置

摘要

本发明提供一种基板处理装置，能够防止对象物的检出精度的降低，同时减轻作业者的负担。在基板处理装置上设置有构成检出传感器(450)的投光部(450a)和受光部(450b)。使受光部(450b)从接受由投光部(450a)照射的激光的直接光的位置向(+Z)方向偏移，配置在可接受由对象物反射的反射光的位置上。基板处理装置，在受光部(450b)接受激光的情况下，判定存在对象物，控制细缝喷嘴的移动机构。

主权项

1.一种基板处理装置，对基板涂敷规定的处理液，其特征在于，具有：保持基板的保持装置；喷出装置，其对所述保持装置所保持的所述基板喷出规定的处理液；移动装置，其使所述保持装置所保持的所述基板和所述喷出装置相对移动，使所述喷出装置对所述基板执行扫描；至少一个检出装置，其检测出在所述喷出装置的扫描中有可能与所述喷出装置发生干涉的对象物；控制装置，其基于所述检出装置的检出结果，控制所述移动装置，所述检出装置具有：照射激光的投光部；受光部，其配置在从接受由所述投光部照射的激光中的直接光的位置偏离的位置上，接受由所述投光部照射的激光中的、由所述对象物反射的激光而作为检出光，所述检出装置，在所述受光部接受了所述检出光的情况下，将作为检测出所述对象物的检出结果传递给所述控制装置。