发明名称 钙钛矿锰氧化物异质薄膜及其制备方法
摘要 本发明公开了一种钙钛矿锰氧化物异质薄膜,包括硅单晶基片(1)、LSMO薄膜(2)、银电极(3)和Fe薄膜(4),在硅单晶基片(1)是一层Fe薄膜(4),在Fe薄膜(4)的上面与Fe薄膜(4)垂直是LSMO薄膜(2),LSMO薄膜(2)的两端是银电极(3),电极(3)上有引出线;Fe薄膜(4)的长度大于LSMO薄膜(2)的宽度,Fe薄膜(4)的面积大于LSMO薄膜(2)的面积。还公开了上述锰氧化物异质薄膜的制备方法,采用磁控溅射方法在硅单晶基片上依次沉积Fe和LSMO薄膜。本发明利用铁薄膜的强氧化性,使LSMO薄膜处于高度氧缺陷状态,从而使光电导改变值从400%上升为1660%;另外,用Si作基片制备的LSMO异质薄膜,造价低廉。
申请公布号 CN100405616C 申请公布日期 2008.07.23
申请号 CN200510043069.3 申请日期 2005.08.08
申请人 西北工业大学 发明人 金克新;陈长乐;赵省贵
分类号 H01L31/00(2006.01);H01G9/20(2006.01);C04B35/00(2006.01) 主分类号 H01L31/00(2006.01)
代理机构 西北工业大学专利中心 代理人 黄毅新
主权项 1.一种钙钛矿锰氧化物异质薄膜,其特征在于:包括硅单晶基片(1)、LSMO薄膜(2)、银电极(3)和Fe薄膜(4),在硅单晶基片(1)上面是一层Fe薄膜(4),在Fe薄膜(4)的上面与Fe薄膜(4)垂直是LSMO薄膜(2),LSMO薄膜(2)的两端是银电极(3),电极(3)上有引出线;Fe薄膜(4)的长度大于LSMO薄膜(2)的宽度,Fe薄膜(4)的面积大于LSMO薄膜(2)的面积。
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